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化工设备结垢清洗是工业生产中常见的一种现象。弄清楚垢层的形成原因、条件和性质，是用化学清洗化工设备方法有效去除垢层的前提，同时也有助于防止或减轻结垢。
结垢原因或机理
    可以区分化工设备清洗由各种不同原因形成的垢，即由于沉淀、结晶、化学反应、腐蚀和微生物的生长而形成的垢层。当然这样区分主要是为了研究其结垢的原因，在实际中很少是单一的一种结构形式，而是一个复合的和各种因素综合在一起形成的结垢过程。
    1.工业设备清洗时发现固体颗粒在壁面的沉淀
    2.换热器清洗除垢时发现由结晶造成的结垢
    3.锅炉除垢时发现由化学反应生成的垢
    4.化工管道清洗时发现有腐蚀形成的垢
    5.器皿清洗时发现有生物垢层
    上述五种结垢的原因或机理，仅仅是为了表达各种结垢的可能性。在实际中往往是许多因素同时存在，情况十分复杂。

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